全自动晶圆解键合清洗机

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全自动晶圆解键合清洗机

具备分离晶圆和载体,并做清洗之功能。

本机台优势:
·客制化机台
·微米等级的对准精度。
·可自动搜寻晶圆厚度,适用厚度50um以上晶圆分片。。
·台湾自行开发,为您提供更贴近需求的设备。
·制程配方控制系统
·实时监控和记录所有相关过程参数

晶圆直径(Wafer size)

最大300mm。(可适用不同基材和载体组合)

 

晶圆载入载出模组(Wafer load/unload module)

晶圆数片(Mapping)功能,可有效侦测,有片,无片,错片及叠片(晶圆无翘曲)。

标准可放置两组cassette(晶圆、载片) ,可依需求增加。

 

对准器模组(Aligner)

可为透明片或非透明晶圆或载体做微米等级的精准对位。

晶圆及载体的对心校正。

找寻晶圆Notch、平边功能。

 

清洗模组(Clean module)

Solvent:依客户需求。

洗剂桶容量:依客户需求。

可依客户需求设定清洗次数与调整制程参数。

 

解键合模组(Debond module)

热解离与机械剥离。

解键合加热采下腔体晶圆加热。

解键合热板工作温度依客户需求。

解键合热板加热达设定温度后5分钟,均匀度可达±1.5%。

解键合真空度依客户需求。

 

选配需求(Option)

FLIP 功能选项。

消防系统。

晶圆翘曲片处理。

机台资讯传输系统。

SECS / GEM。