半 自 动 抛 光 机

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半 自 动 抛 光 机

针对抛光加工制程设备,以液静压技术为主要核心,关键部件「旋转工作台」皆采用高精度、高刚度、制震、耐磨耗的液静压轴承,旋转精度高,极大程度保证工件在加工过程中,具高精度磨削、高效磨削及高稳定性,进而提升减薄良率。并解决轴承主轴研磨时的磨耗,及克服气压主轴研磨时的cushion effect(气垫效应),可更有效率应用于研磨坚硬质料。
产业应用如:SiC、GaAs、Sapphire、Silicon、EMC等。

设备特点

工作轴各自独立马达增加制程稳定 

气压缸式加压可多段压力设置

盘面冷却系统增加制程质量

多重防护机制及盘面监测系统

适用多种尺寸、各式芯片制程

工件尺寸

4” / 6” / 8”/12” 

可以客户需求客制